PP Plast PVD húðunarvél

Sputtering húðunin notar húðunarefnið sem bakskaut og undirlagið sem rafskautið. Samspil segulsviðs og rafsviðs er notað til að láta rafeindirnar keyra í spíralformi nálægt yfirborði skotmarksins og auka þannig líkurnar á að rafeindir ná argon til kynslóða og bæta í raun gasgæði. jónunarhraði til að auka sputtering hraða. Í því ferli að fljúga að undirlaginu rekast rafeindirnar á atóm af óvirku gasi (venjulega Ar), jóna þær til að mynda jákvæðar jónir og jákvæðu jónunum með mikla orku er hraðað af rafsviðinu til að ná yfirborði skotmarksins, sem leiðir til í atómupptöku á yfirborði skotmarksins. Hreyfiorka jákvæðnanna losnar frá upprunalegu grindunum og hlutlausu markatómin sleppa frá yfirborði marksins og fljúga að undirlaginu og setjast á undirlagið til að mynda þunnt filmu. Fáðu filmur af mismunandi efnum og þykktum.

Umsókn

Parameter

Fyrirtækið okkar

maq per Qat: pp plast pvd húðunarvél, Kína, birgja, framleiðendur, verksmiðja, sérsniðin, kaupa, verð, tilvitnun